TFTの高性能化

野口 隆  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J85-C   No.8   pp.609-615
公開日: 2002/08/01
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Print ISSN: 1345-2827
論文種別: 招待論文 (低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
専門分野: 
キーワード: 
TFT,  ポリSi,  LCD,  ELD,  SPC,  ELA,  SOP,  

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あらまし: 
TFTの高性能化に関して,デバイスと材料,プロセスの基本的な観点より論じる.ポリSi TFTは,Si LSIでは積層型SRAMとして,またガラスなど基板上LCDや,新しくELDなどの平面ディスプレイ駆動としても研究開発,応用が盛んである.素子構造や結晶化法など製造プロセスの改善,信頼性評価などにより,移動度向上,リーク低減などの高性能化が進んでいる.一方,LCDやELDでは,走査回路のみでなくより高度な機能回路内蔵の要求から,低電圧化,微細化の流れとともに,素子特性の向上が求められている.システムオンパネル時代へ向けてのTFT技術の更なる展開が期待されていると考えられる.