Hilbert走査を用いた鍵の生成と局所探索により幾何学的改変に対する耐性を高めた電子透かし

岩田 基  汐崎 陽  

誌名
電子情報通信学会論文誌 D   Vol.J84-D2   No.7   pp.1351-1359
発行日: 2001/07/01
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Print ISSN: 0915-1923
論文種別: 論文
専門分野: 画像処理,画像パターン認識
キーワード: 
著作権保護,  電子透かし,  ディジタル画像,  Hilbert走査,  StirMark,  

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あらまし: 
近年,ディジタル情報を扱うことが日常的となっている.ディジタル情報には劣化することなく複製を容易に作成できるという性質があるため,ディジタル著作物の著作権の保護をどのように行うかが問題となっている.現在,ディジタル情報の著作権の保護を実現する手法の一つとして電子透かし技術が注目されている.これは,著作者の署名情報を知覚できないようにディジタル情報に埋め込むことによって著作権を保護するものである.本論文では,ディジタル画像に対し幾何学的改変を施しても署名情報を抽出することが可能な電子透かし手法を提案する.本手法では,まず原画像の局所領域(マスク)の平均値を画素とする画像(平均値画像)を求め,それらをHilbert走査により1次元データへ変換する.次に,それをもとに鍵ベクトルを作成し,鍵ベクトルを用いて署名情報を画像に埋め込む.署名情報の抽出時には,Hilbert走査の特性を利用して画像を分割し,平均値画像を作成するためのマスクを上下左右に移動させることにより局所的な画素の位置ずれの影響を緩和し,幾何学的改変に対する耐性を高める.幾何学的改変に対する耐性を確認するために,電子透かしの耐性検証ツールであるStirMarkを用いる.