チャープファイバグレーティングにおける群遅延リプルの発生原因の解明とその回避方法の提案

小向 哲郎  乾 哲郎  中沢 正隆  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J84-C   No.8   pp.673-680
公開日: 2001/08/01
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DOI: 
Print ISSN: 1345-2827
論文種別: 論文
専門分野: 光エレクトロニクス
キーワード: 
ファイバグレーティング,  チャープファイバグレーティング,  群遅延リプル,  位相マスク,  電子ビーム描画,  

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あらまし: 
本論文ではチャープ位相マスクにより作製したファイバグレーティングの特性と位相エラーのないユニフォームなファイバグレーティングにひずみを付与することによりチャープ化したファイバグレーティングの特性とを比較検討した.その結果,群遅延リプルの支配的な発生要因がチャープ位相マスクの位相エラーにあることを明らかにした.また,位相エラーのないファイバグレーティングを内包した梁をS字形の溝に挿入して線形ひずみを付与することにより従来よりも群遅延リプルの小さなチャープファイバグレーティングが容易に得られることを示した.