a軸配向YBCO薄膜を用いた積層構造トンネル接合の作製とその特性の評価

姜 友松  小林 忠行  後藤 俊成  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J84-C   No.2   pp.151-156
公開日: 2001/02/01
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Print ISSN: 1345-2827
論文種別: 論文
専門分野: 超伝導エレクトロニクス
キーワード: 
2層バリア,  a軸配向YBCO,  SIS接合,  ジョセフソン効果,  トンネル電流,  

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あらまし: 
a軸配向YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜を用いた積層型SIS接合を作製しその特性を検討した.PrGaO3(PGO)とCeO2の2層バリア構造を用いることが電気的短絡を防ぐことに有効であることがわかった.バリアPGO50とCeO225のSIS接合でジョセフソン電流が観測されたが,臨界電流と接合抵抗の温度依存性はSIS接合よりSNS接合に近いものであった.下部電極YBCO膜の表面をイオンビームクリーニングした接合はヒステリシス電流を有する電圧-電流特性を示し,臨界電流と接合抵抗を考察した結果,ジョセフソン電流はトンネル効果によることが明らかになった.