複数のマスク処理を併用した高発生確率インパルス性雑音重畳 画像 からのエッジ検出

石井 宏明  田口 亮  曽禰 元隆  

誌名
電子情報通信学会論文誌 A   Vol.J82-A   No.1   pp.131-141
発行日: 1999/01/25
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Print ISSN: 0913-5707
論文種別: 論文
専門分野: 画像理論,音声理論
キーワード: 
エッジ検出,  高発生確率インパルス性雑音,  複数マスク処理,  ファジー推論,  

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あらまし: 
加法雑音により劣化した画像からエッジ検出を行うには,前処理としてフィルタ処理によりあらかじ め雑音を除去する必要がある.しかし,フィルタ処理は原信号自身の劣化を引き起こすため,筆者ら はこれまで,混合雑音が重畳した画像から直接エッジのみを検出する方法をファジー推論を介したデ ータ依存処理により成し遂げてきた.しかしながら単一のマスク処理では適用可能な劣化画像の範囲 等におけるデータ依存性に限界があった.例えば,高発生確率インパルス性雑音が重畳した画像から エッジを抽出する場合,インパルス性雑音の影響をなくすためには大きなマスクを,細部等のエッジ を正確に検出するためには小さなマスクをそれぞれ適用する必要があり,単一のマスク処理によって, 同時に二つの要求を満たすことは不可能であった.そこで本論文では,高発生確率インパルス性雑音 が重畳した画像から二つのサイズの違うマスク処理を併用したエッジ検出法を提案する.本研究で提 案する複数マスク処理の併用は雑音除去を完全に行うための大きいマスクによる処理と画像細部のエ ッジを検出するための小さいマスクによる処理をファジー推論を介して統合した ものである.この ことより発生確率が50%以上のインパルス性雑音により劣化した画像からも良好なエッジ検出が可 能となった.