MIG型VTRヘッドにおける金属磁性膜厚の設計検討

沢田 武  佐々木 豊成  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J71-C   No.6   pp.937-943
公開日: 1988/06/25
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Print ISSN: 0373-6113
論文種別: 論文
専門分野: 記録・記憶技術
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あらまし: 
MIG型VTRヘッドは高保磁力媒体に記録を行う磁気ヘッドとして重要であり,様々な研究がなされているが,十分な記録性能を得るのに必要な金属磁性膜の厚さについての報告はほとんど見当たらない.本論文では,MIG型VTRヘッドの最適な金属磁性膜の厚さについて,設計検討を行った.解析は2次元有限要素法を用い,金属磁性膜の飽和磁束密度と厚みを変化させたときのギャップ近傍の磁界分布を調べた.次に,その磁界分布より媒体の記録厚みを求め,再生出力に換算することにより記録性能の評価を行った.その結果,金属磁性膜の膜厚,飽和磁束密度と記録性能の関係が明らかになり,最適な膜厚は約20μmであることがわかった.外に,渦電流が与える影響,金属磁性膜をつける位置による性能の変化についても検討を行った.また,本結果を一つの実験結果と比較し,極めてよい一致を示していることを確認した.