VLSIマスクデータに対する論理演算と交点計算を同時処理するパターン論理演算手法

築添 明  小澤 時典  酒見 淳也  三浦 地平  石井 建基  

誌名
電子情報通信学会論文誌 D   Vol.J69-D    No.6    pp.975-983
発行日: 1986/06/25
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Print ISSN: 0913-5713
論文種別: 論文
専門分野: 計算機応用
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あらまし: 
LSIの大規模化,高集積化に伴い,その設計期間の短縮を図ってマスクパターンデータを対象とする設計検証およびマスク作成のための各種CADシステムが開発され使用されている.これらCADに共通に必要な処理はパターン論理演算処理である.本論文では,任意角度の斜めパターンを含む大規模データに対して有効かつ高速なパターン演算手法を提案する.提案する手法は仮想スリット法および限定交点探索法である.仮想スリット法は,従来個別に行われていた交点計算,スリット分割,および論理演算の3処理を同時に行う論理演算手法である.限定交点探索法は,斜めパターンに対して不可欠な交点計算を高速に処理するための手法である.両手法による論理演算処理の時間計算量は入力ベクタ数をNνとすると,理論的にはO(NνlogNν)であり,製品化されているLSIマスクデータに対するプログラム評価ではO(Nν)で近似される結果を得た.