VLSI設計規則検証のための近接辺探索手法

築添 明  酒見 淳也  小澤 時典  

誌名
電子情報通信学会論文誌 D   Vol.J68-D    No.6    pp.1344-1351
発行日: 1985/06/25
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Print ISSN: 0913-5713
論文種別: 論文
専門分野: 計算機応用
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あらまし: 
LSIの大規模化,高集積化に伴い,その設計期間の短縮を計ってマスクパターンデータを対象とする設計検証およびマスク作成のための各種CADシステムが開発され使用されている.マスクパターンの超微細化の進行により,これらCADの中で設計規則検証CADの果たす役割は特に大きくなっている.本論文では,任意角度の斜めパターンを含む大規模データに対して有効かつ高速な設計規則検証のための近接辺探索手法を提案する.提案する手法は近接辺の探索範囲をxy両方向とも限定しており,二次元限定近接辺探索法と呼ぶ.本手法の実現に当たり,処理速度と主メモリ量の観点から辺探索方式と頂点探索方式の二方式を考えた.両方式とも計算複雑度が入力ベクタ数をNvとするとONv)であることを,また両方式の処理速度と主メモリ量の差異を,製品化されているLSIマスクデータに対するプログラム評価結果で示す.