シリコン太陽電池の反射防止膜に関する一考察

柴田 登  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J66-C    No.5    pp.430-431
公開日: 1983/05/25
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Print ISSN: 0373-6113
論文種別: 技術談話室
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あらまし: 
P/Nシリコン太陽電池をフッ化水素酸溶液(以下HF)で約10分間前後処理するだけの工程で受光面に適当な反射防止膜が形成された.