図形整形アルゴリズムとそのLSIパターン設計への応用

佐藤　政生  橘　昌良  大附　辰夫  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J66-C    No.12    pp.1132-1139
公開日: 1983/12/25
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Print ISSN: 0373-6113
論文種別: 特集論文 (LSI特集)
専門分野: 配置・配線CAD
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あらまし: 
本論文では，座標がディジタル化されたXY平面上において，X軸またはY軸と平行な線分および軸と45°の角をなす線分で囲まれた閉領域と変更幅が与えられたとき，元の領域を変更幅分だけ拡大または縮小する問題（図形整形問題）について考察する．まず，図形整形に関するいくつかの定理を示した後に，この問題をO（n log n）の手間で処理するアルゴリズムを提案する．ここで，nは領域の頂点数である．次に，本アルゴリズムの具体的な応用例として，マスクパターンにおける最小素子間隔，最小素子寸法といった設計ルールの検証，および，アパーチャ，パターンジェネレータ等の機械固有の誤差の補正などについて考察する．