図形整形アルゴリズムとそのLSIパターン設計への応用

佐藤 政生  橘 昌良  大附 辰夫  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J66-C    No.12    pp.1132-1139
公開日: 1983/12/25
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Print ISSN: 0373-6113
論文種別: 特集論文 (LSI特集)
専門分野: 配置・配線CAD
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あらまし: 
本論文では,座標がディジタル化されたXY平面上において,X軸またはY軸と平行な線分および軸と45°の角をなす線分で囲まれた閉領域と変更幅が与えられたとき,元の領域を変更幅分だけ拡大または縮小する問題(図形整形問題)について考察する.まず,図形整形に関するいくつかの定理を示した後に,この問題をOn log n)の手間で処理するアルゴリズムを提案する.ここで,nは領域の頂点数である.次に,本アルゴリズムの具体的な応用例として,マスクパターンにおける最小素子間隔,最小素子寸法といった設計ルールの検証,および,アパーチャ,パターンジェネレータ等の機械固有の誤差の補正などについて考察する.