折線近似によるガン効果の電気二重層の過渡特性の解析

菅田 孝之  柳井 久義  生駒 俊明  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J53-C   No.4   pp.245-252
公開日: 1970/04/25
Online ISSN: 
DOI: 
Print ISSN: 0373-6113
論文種別: 論文・資料
専門分野: 
キーワード: 


本文: PDF(744.9KB)>>
論文を購入




あらまし: 
折線近似によるガン効果の定常電気二重層の解析にひきつづき,vE曲線の折線近似や層の三角形電界分布近似などを用いて電気二重層の生成過程および消滅過程の解析を行なった.生成過程においては不純物密度の不均一な部分から層が発生する場合を考えて,層の空乏層内の電子の欠乏率が一定のままで成長する場合と,その幅が一定で成長する場合とについて解析的に取り扱い,実際はこの両者の中間にあることを示し,このような近似解析結果の適用範囲を明らかにした.またステップ状のバイアス電界に対する過渡応答電流波形やその応答速度を解析的に求め,それらと材料定数との関係を明らかにした.層の消滅過程についてはバイアス電圧をさげたとき,走行中の層が消滅する場合と陽極に到達して消滅する場合とについて生成過程と同様な解析を行なった.また過渡的な電流波形の観測から解析結果の若干の裏付けを行なった.このようなことから,特に電気二重層の諸特性を利用したディジタル素子および機能素子の検討をする際,この近似解析結果を適用すれば,その動作機構,設計理論およびその性能評価などを見通し良く論ずることができる.