キーワード : OXIDE


SPE法によるSOI層の熱酸化膜の評価
樹神 雅人 船橋 博文 光嶋 康一 多賀 康訓 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1997/05/25
Vol. J80-C2  No. 5 ; pp. 151-156
論文種別:  論文
専門分野: 半導体材料・デバイス
キーワード: 
SOISPELPCVDOXIDE
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