キーワード : N2O


N2Oガス気相熱励起法によるシリコン酸窒化膜の形成
遠田 義晴 武田 創太郎 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 2004/07/01
Vol. J87-C  No. 7 ; pp. 590-591
論文種別:  レター
専門分野: 
キーワード: 
シリコン酸窒化膜ゲート絶縁膜N2O気相励起
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ギガビットULSIに向けた極薄シリコン酸窒化膜
福田 永 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1999/02/25
Vol. J82-C1  No. 2 ; pp. 35-41
論文種別:  解説論文
専門分野: 
キーワード: 
シリコン酸化膜酸窒化N2OMOSFETULSI
 あらまし | 本文:PDF(688.1KB)

ギガビットULSIに向けた極薄シリコン酸窒化膜
福田 永 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1999/02/25
Vol. J82-C2  No. 2 ; pp. 49-55
論文種別:  解説論文
専門分野: 
キーワード: 
シリコン酸化膜酸窒化N2OMOSFETULSI
 あらまし | 本文:PDF(688.2KB)