キーワード : 電子親和力


プラズマCVD法によりシリコン酸化膜とシリコン酸素窒化膜の生成
柴田 登 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1996/12/25
Vol. J79-C2  No. 12 ; pp. 747-748
論文種別:  レター
専門分野: 
キーワード: 
プラズマCVD法酸素元素シリコン酸化膜シリコン酸素窒化膜電子親和力
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