キーワード : 反応機構


WF6/Si2H6によるWSixブランケットCVDのモデリングとシミュレーション
江頭 靖幸 会田 弘文 齊藤 丈靖 霜垣 幸浩 小宮山 宏 菅原 活郎 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1995/05/25
Vol. J78-C2  No. 5 ; pp. 213-220
論文種別:  特集論文 (集積化配線技術論文特集)
専門分野: 層間絶縁膜
キーワード: 
CVDタングステンシリサイドSi2H6WF6反応機構シミュレーション
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