キーワード : 位相マスク


チャープファイバグレーティングにおける群遅延リプルの発生原因の解明とその回避方法の提案
小向 哲郎 乾 哲郎 中沢 正隆 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 2001/08/01
Vol. J84-C  No. 8 ; pp. 673-680
論文種別:  論文
専門分野: 光エレクトロニクス
キーワード: 
ファイバグレーティングチャープファイバグレーティング群遅延リプル位相マスク電子ビーム描画
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チャープファイバグレーティングを用いた 分散等化器の設計
小向 哲郎 今井 健之 中沢 正隆 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1999/06/25
Vol. J82-C1  No. 6 ; pp. 359-369
論文種別:  論文
専門分野: 光エレクトロニクス
キーワード: 
ファイバグレーティングチャープファイバグレーティング群遅延波長分散高次分散光サーキュレータ位相マスク
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高品質ファイバグレーティングの作製とその波長チューニング
小向 哲郎 山本 貴司 今井 健之 中沢 正隆 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1996/11/25
Vol. J79-C1  No. 11 ; pp. 413-419
論文種別:  論文
専門分野: 光エレクトロニクス
キーワード: 
ファイバグレーティング位相マスク光サーキュレータ応力
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