キーワード : シリコン酸化膜


エルビウム添加シリコン酸化膜を用いた電流注入型赤外発光素子の低電圧化
中 良弘 曽根田 真也 中野 誠一 疋田 創 住吉 猛 土屋 昌弘 中村 有水 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 2010/08/01
Vol. J93-C  No. 8 ; pp. 264-265
論文種別:  レター
専門分野: 
キーワード: 
シリコンフォトニクスエルビウムシリコン酸化膜
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電子注入ストレスを加えたゲート酸化膜の電流検出型原子間力顕微鏡による解析
世古 明義 渡辺 行彦 近藤 博基 酒井 朗 財満 鎭明 安田 幸夫 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 2004/08/01
Vol. J87-C  No. 8 ; pp. 616-624
論文種別:  論文
専門分野: 電子材料
キーワード: 
シリコン酸化膜電流検出型原子間力顕微鏡法信頼性ストレス誘起リーク電流トラップ
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通電ストレスによる破壊状態における極薄シリコン酸化膜伝導機構のモデル化と破壊状態の考察
小宮 健治 岡 崇 岡田 直樹 大村 泰久 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 2001/01/01
Vol. J84-C  No. 1 ; pp. 34-39
論文種別:  論文
専門分野: 半導体材料・デバイス
キーワード: 
シリコン酸化膜通電破壊伝導機構真性破壊疑似破壊
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ギガビットULSIに向けた極薄シリコン酸窒化膜
福田 永 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1999/02/25
Vol. J82-C1  No. 2 ; pp. 35-41
論文種別:  解説論文
専門分野: 
キーワード: 
シリコン酸化膜酸窒化N2OMOSFETULSI
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ギガビットULSIに向けた極薄シリコン酸窒化膜
福田 永 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1999/02/25
Vol. J82-C2  No. 2 ; pp. 49-55
論文種別:  解説論文
専門分野: 
キーワード: 
シリコン酸化膜酸窒化N2OMOSFETULSI
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プラズマCVD法によりシリコン酸化膜とシリコン酸素窒化膜の生成
柴田 登 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1996/12/25
Vol. J79-C2  No. 12 ; pp. 747-748
論文種別:  レター
専門分野: 
キーワード: 
プラズマCVD法酸素元素シリコン酸化膜シリコン酸素窒化膜電子親和力
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