江頭 靖幸


WF6/Si2H6によるWSixブランケットCVDのモデリングとシミュレーション
江頭 靖幸 会田 弘文 齊藤 丈靖 霜垣 幸浩 小宮山 宏 菅原 活郎 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1995/05/25
Vol. J78-C2  No. 5  pp. 213-220
論文種別:  特集論文 (集積化配線技術論文特集)
専門分野: 層間絶縁膜
キーワード: 
CVDタングステンシリサイドSi2H6WF6反応機構シミュレーション
 あらまし | 本文:PDF(585.4KB)

WSix-CVDプロセスの反応機構―WF6/SiH4,WF6/Si2H6反応系の比較―
齊藤 丈靖 霜垣 幸浩 江頭 靖幸 小宮山 宏 菅原 活郎 高広 克己 永田 晋二 山口 貞衛 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1995/05/25
Vol. J78-C2  No. 5  pp. 221-229
論文種別:  特集論文 (集積化配線技術論文特集)
専門分野: メタルCVD
キーワード: 
ステップカバレッジ付着確率ラジカル連鎖反応膜組成予備加熱
 あらまし | 本文:PDF(719.4KB)