杉野 林志


塩素ガスエッチングを用いた微細MOS Elevated Source/Drainプロセス―高選択,ダメージフリーのバッチ処理Siエッチング―
杉野 林志 Unsoon Kim Kyunghoon Min Ning Cheng Huaqiang Wu Chungho Lee Fred Cheung Hiroyuki Kinoshita 上西 雅彦 加藤 寿 多田 新吾 伊藤 隆司 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 2008/07/01
Vol. J91-C  No. 7  pp. 363-369
論文種別:  論文
専門分野: 半導体材料・デバイス
キーワード: 
Elevated Source/Drainポリシリコンダメージフリーエッチング塩素ガスLPCVD
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