奥出 幸二郎


ゾル・ゲル法によるSiO2薄膜の合成と分子構造解析
前川 幸子 奥出 幸二郎 大石 知司 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1993/12/25
Vol. J76-C2  No. 12  pp. 776-781
論文種別:  論文
専門分野: 材料
キーワード: 
ゾル・ゲル法29Si固体NMRラマン分光
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