複数枚の反射率相違基板を連続パターニング可能なレーザビーム描画装置の開発

原野 正幸  鳥羽 栄治  児島 由尚  西松 豊典  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J81-C2   No.1   pp.199-206
発行日: 1998/01/25
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DOI: 
Print ISSN: 0915-1907
論文種別: 論文
専門分野: 半導体材料・デバイス
キーワード: 
レーザビーム,  直接描画,  SHGレーザ,  光導波路,  重回帰分析,  オートフォーカス,  

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あらまし: 
レーザビームを使用して,基板の描画線幅が数μmオーダのパターンを直接描画することが可能なフォトリソグラフィ技術に着目して,本研究では複数枚の反射率の異なる光導波路基板(LiNbO3)に連続的にパターニング可能なSHGレーザビーム描画装置を開発した.レーザビーム描画する場合,基板の描画パターン線幅の任意設計を可能にするための手法として,重回帰分析法により,フォトレジストの膜厚,基板の反射率,描画光強度,描画速度の四つのパラメータを変数とした重回帰式を導出した.この重回帰式の妥当性と有効性について検討を加え,更に本レーザビーム描画装置で効率的に所望の描画線幅のパターニングが可能であることを明らかにした.