Si/SiO2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察

川上 彰二郎  花泉 修  佐藤 尚  大寺 康夫  川嶋 貴之  

誌名
電子情報通信学会論文誌 C   Vol.J80-C1   No.6   pp.296-297
公開日: 1997/06/25
Online ISSN: 
Print ISSN: 0915-1893
論文種別: レター論文
専門分野: 
キーワード: 
3次元周期構造,  フォトニックバンドギャップ,  スパッタエッチング,  

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あらまし: 
2種類の透明媒質からなるサブミクロン周期3次元構造を初めて作製し,光学的に観察した結果について報告する.材料系はSi(n=3.26)とSiO2(n=1.46)であり,バイアススパッタリング法によって凹凸パターンを保存しながら積層することができた.3次元周期構造部分のパスバンドとストップバンドが1次元のみの周期構造部分に対して大きく変化している様子が確認された.