特徴パターンの分布に着目した位置認識アルゴリズム

酒匂 裕  宮武 孝文  嶋 好博  柏岡 誠治  江尻 正員  

誌名
電子情報通信学会論文誌 D   Vol.J71-D   No.7   pp.1258-1266
発行日: 1988/07/25
Online ISSN: 
Print ISSN: 0913-5713
論文種別: 論文
専門分野: 画像・パターン処理
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あらまし: 
微細パターンをもった半導体素子の高精度位置決めの自動化には,パターン認識技術が重要な役割を果たしている.しかし,最近の高集積半導体素子には同一形状の繰返しパターンが多用されている.また,像拡大率が高い場合には認識対象の特定パターンが供給誤差により視野から逸脱してしまう,という理由で,視野内の特定パターンの形状の唯一性を利用した従来の位置認識手法を適用できなくなる恐れが出てきた.本論文では,まず,この問題の解決策として,視野全体を一つの特異なパターンと考え,視野と認識対象物のパターンの全体構造を特徴パターンの分布状態で記述し,その構造間で照合して視野の位置を検出する手法を提案し,次に,この特徴パターンを検出するのに最適な2値化手法を論ずる.これらの手法は,構造照合をも含めて簡単なハードウェアで実現でき,高速処理が可能である.最後に,実際の半導体素子のパターンを用いたシミュレーション実験を行い,本アルゴリズムの有効性を示す.