林 秀和


CVD-Al薄膜の成長過程とその下地依存性―堆積膜表面からの反射光強度のモニタ―
小林 明子 菅井 和己 関口 敦 岸田 俊二 岡林 秀和 八子 忠明 新澤 勉 岡田 修 細川 直吉 門倉 秀公 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1995/05/25
Vol. J78-C2  No. 5  pp. 237-243
論文種別:  特集論文 (集積化配線技術論文特集)
専門分野: メタルCVD
キーワード: 
Al薄膜CVD法反射光強度その場観察平滑性
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新核形成法によるバリヤ層のないCVD-Al埋込配線形成
新澤 勉 菅井 和己 小林 明子 林 喜宏 中島 努 岸田 俊二 岡林 秀和 八子 忠明 恒成 欣嗣 村尾 幸信 
誌名:   電子情報通信学会論文誌 C
発行日: 1995/05/25
Vol. J78-C2  No. 5  pp. 230-236
論文種別:  特集論文 (集積化配線技術論文特集)
専門分野: メタルCVD
キーワード: 
溝配線Al薄膜CVD法核形成
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